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接近式光刻机跟接触式光刻机类似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25微米之间。
此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤。
此外,接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中。
接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。
直到七十年代末期,才有了投影式光刻机,这种光刻机技术就是现如今的主流光刻机的初代机了。
许多年在六十年代的时候,就已经组织科研人员进行这些方面的研究了。
芯片是未来啊!
而光刻机则是造芯片的最重要的设备之一,甚至是在原时空历史上,成为被卡脖子的技术之一。
后世那个时代,被卡脖子的技术可太多太多了,光刻机在二零四年的时候,都还没被解决掉呢。
还有核心工业软件、航空发动机短舱、核心算法、医学影像设备元器件、环氧树脂、高端电容电阻等等。
这些都是后世那个时空被卡脖子的核心科技。
许多年当然知道这些,因此在收购劳斯莱斯集团的时候就已经开始布局了,在六六年搬来港岛之后,更是全面开始这些计划了。
按理说,当初的六七十年代,许多年从国外这边搞来了不少核潜艇、核反应堆、战斗机等先进设备和技术资料等。
但内地的发展,却还是没有加快多少。
毕竟众所周知的一件事,所以即便有许多年提供的这些设备和技术资料的支持,也没能够完成超越。
更别说内地本身的基础摆在那边,所以后来一直也很难在尖端领域追赶上欧美。
这个时空就不一样了,许多年提前布局,仅仅只是芯片制造这方面,就已经超越了欧美。
只不过,许多年按住了劳斯莱斯集团等几家公司的研发中心,没让他们那么快速地把技术拿出来。
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